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電化學(xué)成像

發(fā)布日期:2016/07/10

開始時(shí)間: 2016-07-14 15:00:00

報(bào)告地點(diǎn): 實(shí)驗(yàn)四樓203室

報(bào) 告 人: 廈門大學(xué)詹東平教授

主辦單位: 化學(xué)與分子工程學(xué)院

備    注:
報(bào)告人簡(jiǎn)介:
1990~1994,哈爾濱工程大學(xué)化學(xué)工程系工學(xué)學(xué)士
1997~2002,武漢大學(xué)化學(xué)與分子科學(xué)學(xué)院,理學(xué)博士
2002~2004,北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院,博士后
2005~2008,德州大學(xué)奧斯汀分校化學(xué)與生物化學(xué)系,博士后
2008~2009,紐約市立大學(xué)皇后學(xué)院化學(xué)與生物化學(xué)系,博士后
2009~2013,廈門大學(xué)化學(xué)系,副教授
2013~        ,廈門大學(xué)化學(xué)系,教授

研究領(lǐng)域:

納米電極電化學(xué):納米電極制作和表征新方法;電極過程動(dòng)力學(xué);單分子、單細(xì)胞和單納米顆?;瘜W(xué);電化學(xué)現(xiàn)場(chǎng)調(diào)制針尖增強(qiáng)拉曼譜學(xué)。掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM):SECM新型工作模式及儀器研制;電極過程動(dòng)力學(xué);單細(xì)胞化學(xué);組合電化學(xué)生物芯片;電化學(xué)微納米加
工。約束刻蝕劑層技術(shù)(CELT):微納米尺度三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)加工技術(shù),宏觀尺度微納米精度(超光滑表面)加工技術(shù);CELT加工裝備研制。
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